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產(chǎn)品展示/ Product display

您的位置:首頁  /  產(chǎn)品展示  /  分散機  /  實驗室分散機  /  XMD大腸桿菌發(fā)酵液超高速研磨分散機

大腸桿菌發(fā)酵液超高速研磨分散機

大腸桿菌發(fā)酵液超高速研磨分散機透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。

  • 產(chǎn)品型號:XMD
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2023-11-12
  • 訪  問  量:2066
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詳細介紹

大腸桿菌發(fā)酵液超高速研磨分散機,大腸桿菌高速均質(zhì)機,大腸桿菌高速膠體磨是是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。

 

大腸桿菌發(fā)酵液是

發(fā)酵結(jié)束后的發(fā)酵液組成情況非常復(fù)雜,處理措施與化學合成法明顯不同。通常情況下,發(fā)酵液中目標物濃度很低,而雜質(zhì)含量卻很高,成份遠較化學反應(yīng)母液情況復(fù)雜,大量菌體細胞、培養(yǎng)基、各種蛋白質(zhì)膠狀物、色素、金屬離子和其它代謝物等混雜其中,使得發(fā)酵液的預(yù)處理對于目標物的zui終獲取非常必要。

   1、發(fā)酵液預(yù)處理的目的是使發(fā)酵液中的蛋白質(zhì)和某些雜質(zhì)沉淀,以增加濾速,過濾的目的是使菌絲體與發(fā)酵液分離,以便從發(fā)酵液或菌絲體中提取目標物。預(yù)處理階段主要去除兩大類雜質(zhì):可溶性黏膠狀物質(zhì)(核酸、雜蛋白、不溶性多糖等)和無機鹽(不僅影響成品熾灼殘渣,還會影響離子交換法提取目標物的收率)。
 確定預(yù)處理方法前,首先要明確目標物存在于胞內(nèi)(菌體)還是胞外(發(fā)酵液),以確定棄去和收集的對象;還要結(jié)合目標物的穩(wěn)定性等特點,選擇預(yù)處理的pH、溫度和化學試劑等。對于菌絲體及雜蛋白的處理一般可采用等電點沉淀、變性沉淀、沉淀劑沉淀、加入絮凝劑、加入凝聚劑、吸附以及酶解法去除不溶性多糖等措施,對提取效果和成品質(zhì)量影響較大的無機雜質(zhì)主要是Ca2+、Mg2+、Fe3+等高價金屬離子,可采用離子交換法、沉淀法等措施去除。加入的預(yù)處理試劑除要考慮到處理效果外,還要考慮低毒性、利于環(huán)保以及易于從終產(chǎn)品中除去等因素,申報時應(yīng)說明所采取的措施及加入的試劑,必要時在成品質(zhì)量研究中檢測其殘留量。
   液-固分離是發(fā)酵液預(yù)處理的重要步驟,通常采用板框壓濾、真空過濾以及離心分離等措施,過濾是各種措施中普遍存在的一個環(huán)節(jié),為提高過濾效果、提高濾液質(zhì)量,通常加入助濾劑,選擇助濾劑時除考慮其效果和成本外,***,惰性,不與濾液和目標物產(chǎn)生化學反應(yīng)對于終產(chǎn)品的質(zhì)量和安全性尤為重要。 
  預(yù)處理后的濾液是生產(chǎn)過程中重要的中間產(chǎn)物,類似于化學反應(yīng)中的中間體,有必要制訂其質(zhì)量控制標準,比如,一般情況下要澄清、有一定濃度、pH適中,需要說明的是,后續(xù)的提取工藝不同,對濾液的質(zhì)量要求不同,如離子交換法提取目標物時對無機離子、澄清度等方面要求較嚴格。

大腸桿菌發(fā)酵液超高速研磨分散機,大腸桿菌高速均質(zhì)機,大腸桿菌高速膠體磨

 

細化作用一般來說要強于均質(zhì)機,但它對物料的適應(yīng)能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。 

研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

XMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

 

設(shè)備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式:普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件: PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質(zhì):SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理:拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

研磨分散機

流量*

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW

 

XMD 2000/4

300

9,000

23

2.2

DN25/DN15

XMD 2000/5

3000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

XMD 2000/10

8000

4,200

23

22

DN80/DN65

XMD 2000/20

20000

2,850

23

37

DN80/DN65

XMD 2000/30

40000

1,420

23

55

DN150/DN125

XMD2000/50

80000

1,100

23

110

DN200/DN150

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