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產(chǎn)品展示/ Product display

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石墨烯導(dǎo)電銀漿分散機(jī)

石墨烯導(dǎo)電銀漿分散機(jī)用*的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)將傳統(tǒng)的膠體磨和分散機(jī)合二為一,并配合超高速的轉(zhuǎn)速,轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm,研磨分散效果更佳。

  • 產(chǎn)品型號(hào):XMD
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2023-11-12
  • 訪  問(wèn)  量:1709
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詳細(xì)介紹

一、產(chǎn)品名稱關(guān)鍵詞:石墨烯導(dǎo)電銀漿分散機(jī),銀粉漿料分散機(jī),銀漿復(fù)合分散機(jī),高剪切分散機(jī),高速膠體磨,膠體研磨機(jī)


二、銀漿的性質(zhì)與生產(chǎn): 

銀漿系由高純度金屬銀的微粒、粘合劑、溶劑、助劑所組成的一種機(jī)械混和物的粘稠狀的漿料。導(dǎo)電銀漿對(duì)其組成物質(zhì)要求是十分嚴(yán)格的。其品質(zhì)的高低、含量的多少,以及形狀、大小對(duì)銀漿性能都有著密切關(guān)系。銀粉的分散效果直接關(guān)系到銀漿的質(zhì)量。所以采用好的分散設(shè)備對(duì)銀粉的分散是至關(guān)重要的,當(dāng)然分散劑的應(yīng)用也是*的。            

納米銀粉分散混合設(shè)備,納米銀粉分散,銀粉比表面積較大,易發(fā)生團(tuán)聚很難分散,如何將銀粉制成銀漿?銀漿的制備,炭黑的制備,銀粉的分散,炭黑的分散,高剪切分散機(jī)可幫您解決此類難題。

三、XMD2000石墨烯導(dǎo)電銀漿分散機(jī)

研磨分散機(jī)是由膠體磨分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強(qiáng)的流體湍流下。凹槽在每級(jí)口可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。

 

以下為型號(hào)表供參考:

型號(hào)

標(biāo)準(zhǔn)流量

L/H

輸出轉(zhuǎn)速

rpm

標(biāo)準(zhǔn)線速度

m/s

馬達(dá)功率

KW

進(jìn)口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

 

采用XMD2000/4研磨分散機(jī),進(jìn)行研磨細(xì)化。

7L罐體(罐體大小后期可選擇)及循環(huán)系統(tǒng),易于批次物料處理。

攪拌機(jī)進(jìn)行攪拌預(yù)混,提高產(chǎn)品的均勻性。

我司研磨分散機(jī)為超高速設(shè)備(轉(zhuǎn)速18000rpm),需要配冷水機(jī)對(duì)機(jī)械密封進(jìn)行降溫。

同時(shí)需要配置一臺(tái)變頻器,進(jìn)行轉(zhuǎn)速調(diào)試,設(shè)備開(kāi)關(guān),有利于保護(hù)設(shè)備。

 

研磨分散機(jī)處理銀漿優(yōu)勢(shì):

結(jié)合客戶實(shí)驗(yàn)案例,采用研磨分散機(jī)進(jìn)行銀粉處理,不僅生產(chǎn)效率快,一般研磨5-10遍即可;而且這種方式相對(duì)于三輥機(jī)以及砂磨機(jī)而言,物料損失更小。  

 

銀粉研磨分散設(shè)備采用*的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)將傳統(tǒng)的膠體磨和分散機(jī)合二為一,并配合超高速的轉(zhuǎn)速,轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm,研磨分散效果更佳。                
   

XMD2000系列研磨分散機(jī)參數(shù)表:

產(chǎn)品型號(hào)

XMD2000/4

XMD2000/5

XMD2000/10

品牌

SID/希德

電機(jī)功率(kw)

4

11

22

處理量(L/H)

400

1500

4000

主軸轉(zhuǎn)速(rpm)

14000

10500

7300

線速度(m/s)

44

分散盤(pán)直徑

55

75

115

進(jìn)出口尺寸

DN25/DN15

DN40/DN32

DN80/DN65

外形尺寸

450*350*750

624*350*1177

930*400*1233

與物料接觸部分材質(zhì)

316L

工作方式

高速剪切

速度類型

無(wú)級(jí)變速

變速方式

變頻變速

產(chǎn)品類型

全新

適用物料

乳液、混懸液、漿料等

應(yīng)用行業(yè)

食品、化工、醫(yī)藥、化妝品、能源、石油等

 

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